Przydatna fala zanikająca
23 października 2008, 18:07Na Uniwersytecie Kalifornijskim w Berkeley opracowano nową metodę tworzenia układów scalonych, która znacząco zwiększa możliwości obecnie wykorzystywanej litografii. Akademicy połączyli metalowe soczewki skupiające światło dzięki pobudzonym elektronom (plazmonom) z "latającą głowicą" przypominającą głowicę zapisująco/odczytującą dysku twardego.
IBM wyrzeźbił świat
26 kwietnia 2010, 10:19Inżynierowie IBM-a stworzyli najmniejszą w historii trójwymiarową mapę kuli ziemskiej. Jest ona tak mała, że na kryształku soli zmieściłoby się 1000 takich map. Naukowcom udało się to osiągnąć dzięki wykorzystaniu nowej przełomowej techniki.
Tlenek krzemu przełamie barierę prawa Moore'a?
31 sierpnia 2010, 16:28Jak długo da się utrzymać prawo Moore'a? Wytwórcy układów pamięci uważają, że nie da się zejść z wielkością elementu poniżej 10 nm, dla pamięci flash zaś 20 nm. Naukowcy z Rice University pokazali tymczasem działający układ pamięci z tlenku krzemu z elementami wielkości pięciu nanometrów.
TSMC szykuje się do produkcji 5-nanometrowych układów scalonych
24 lutego 2017, 11:00Wczoraj, podczas organizowanego corocznie przez TSMC forum Supply Chain Management, poznaliśmy plany koncernu dotyczące technologii 5 nanometrów. Pierwsze układy scalone wykonane w tym procesie produkcyjnym mają powstać w TSMC już w I połowie 2019 roku.
Niebezpieczna skala nano
16 kwietnia 2007, 11:04Wprowadzaniu nowych materiałów często towarzyszą obawy o ich wpływ na środowisko naturalne i zdrowie człowieka. Ma to zastosowanie również w dziedzinie elektroniki, w której coraz częściej pojawiają się np. nanorurki i rozwija się nanotechnologia.
Przełomowe "pamięci macierzowe"?
20 marca 2008, 11:30Kalifornijska firma Nanochip Inc. ogłosiła, że dokonała przełomu w rozwijanej przez siebie od 12 lat technologii "pamięci macierzowej". To technologia, która nie jest zależna od Prawa Moore'a - mówi Gordon Knight, dyrektor Nanochipa.
25 nanometrów z MIT
15 lipca 2008, 10:45Naukowcy z MIT (Massachusetts Institute of Technology) opracowali narzędzie litograficzne, które umożliwia tworzenie linii o grubości 25 nanometrów, które leżą od siebie w odległości 25 nanometrów. Tak zwana nanolinijka może współpracować z już obecnie wykorzystywanymi narzędziami do litografii optycznej.
Ścisnęli mocno światło
4 sierpnia 2008, 15:54Naukowcom z Uniwersytetu Kalifornijskiego w Berkeley udało się przepuścić światło przez niezwykle małą szczelinę. To, co może wyglądać na czysto akademickie badania, będzie miało olbrzymie znaczenie przy miniaturyzacji urządzeń optycznych wykorzystywanych w telekomunikacji czy komputerach optycznych.
Nowy fotorezyst dla technologii 20 nanometrów
17 listopada 2009, 12:53Toshiba poinformowała o opracowaniu fotorezystu, który współpracuje z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i jest pierwszym nadającym się do wykorzystania w 20-nanometrowym procesie produkcyjnym.
Po co Intelowi D1X?
21 października 2010, 12:26Brian Krzanich, wiceprezes Intela odpowiedzialny za proces produkcyjny, zdradził w rozmowie z serwisem CNET, jak wielkie znaczenie będzie miała fabryka D1X, która powstanie w Oregonie.
« poprzednia strona następna strona » 1 2 3 4 5 6 7 …
